本周，苹果获得美国专利和商标局（USPTO）颁发的三项新专利，这三项专利都是关于圆形表盘方面的。由此可以推测出，苹果正在积极研发圆形表盘的 Apple Watch。
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想必，圆形表盘的 Apple Wacth 有望在明年与我们见面。
除了苹果，今年好像特别不顺的三星又在专利上摔跟头了。
早前 TSMC 指责三星剽窃了他们的工艺技术，现在韩国 KAIST(韩国科学与技术学院)直接把三星告上法庭，指控他们侵犯了 KAIST 的 FinFET 专利，包括三星的合作伙伴高通和 GlobalFoundries 也一并被告上法庭。
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KAIST 通过管理专利的子公司 KAIST IP 在美国德州联邦法院提起了法律诉讼，指控三星、GlobalFoundries 以及高通侵犯了他们编号为 6885055 的美国专利——一种双栅极 FinFET 设备及其制造方法。
根据 KAIST 的描述，这种技术是由2001年在韩国圆光大学任职的 Lee Jong-ho 教授提出来的，而三星邀请 Lee 教授给自家工程师演讲，并获得了这项专利技术。
KASIT IP 指出，三星盗用 Lee 教授的技术节省了大量开发时间和成本，却没有支付任何专利费。他们指责三星还在持续侵犯该专利，丝毫不考虑 Lee 教授的权益或者给予适当的补偿。
由于三星的 14nm FinFET 工艺不仅自己用，还授权给了 GlobalFoundries 公司，并为高通公司代工处理器，因此后面两家也一起被告上了法庭。
对于这些指控，三星公司表示正在调查指控情况，他们强调三星从 2000 年代初期就开始研发 3D 半导体技术，拥有 FinFET 相关专利。
除了苹果三星，曾经的手机王者诺基亚也有消息曝出。
昨天，于今年 5 月份成立的芬兰公司 HMD 对外宣布正式开始运营，并且该公司将在 2017 年上半年发布两款诺基亚手机。
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诺基亚将在 MWC 2017上为大家展示回归后的第一款智能手机 D1C。当然这款手机并非由诺基亚直接研发生产，而是授权给刚刚提到的 HMD公司进行设计生产。
诺基亚 D1C 分为两个版本，低配版采用 5.0 寸 1080p 屏幕，2 GB RAM+16 GB ROM 的内存组合，前置 800W 像素，后置1300W 像素；高配版则配备了5.5 寸 1080p 屏幕，3 GB RAM+16 GB ROM 的内存组合，前置 800W 像素，后置 1600W 像素。均搭载骁龙 430 处理器，运行 Android 7.0 系统。
除了 D1C，诺基亚还有两款高端安卓手机正在研发当中，分别是诺基亚 C1 和诺基亚 P1。这两款诺基亚安卓手机分别采用 5.2 寸和 5.5 寸 2K 分辨率 Amoled 屏幕，金属机身设计，运行 Android 7.0 系统。
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